Neu in unserem Dienstleistungsangebot - Dropleg-Applikationstechnik

Ab sofort können wir zielgerichtete und umweltschonende Pflanzenschutzmaßnahmen mit unserer Amazone Pantera durchführen.

Bei der Dropleg-Applikationstechnik werden die Düsen innerhalb des Bestandes zwischen den Pflanzenreihen geführt. Fungizide und Insektizide können so an schwer zu benetzende Zielflächen, wie die Blattunterseite und den Stängel, gelangen.

Im Vergleich zur Standardspritztechnik ergibt sich durch den Einsatz der Dropleg-Technik eine bessere Verteilung der Spritzbrühe im Pflanzenbestand. Dadurch wird eine erhöhte Anlagerung des Wirkstoffes an der Pflanze erzielt. Aus diesem Grund entsteht eine höhere biologische Wirkung gegen parasitäre Schaderreger.

Da sich die Düsen im Bestand befinden, wird eine Abdriftminderung erzielt. Dadurch entsteht eine zeitliche Flexibilität, da die Applikation weniger windanfällig ist. Auch eine temperaturunabhängige Anwendung ist durch die Dropleg-Technik möglich. Die angewendete Spritzbrühe ist durch den Pflanzenbestand vor Sonnenlicht geschützt, was eine Verdunstung minimiert. 

 

Einsatz im Mais:

 

Mit der Dropleg-Technik können im Mais die Herbizide in einem fortgeschrittenen Entwicklungsstadium gezielt auf die Unkrautflora ausgebracht werden. Dadurch wird die Hauptkultur geschont. Außerdem besteht die Möglichkeit einer Blattdüngung und die Bekämpfung des Maiszünslers.  

 

Einsatz im Raps:

 

Mit der Dropleg-Technik kann die Blütenbehandlung erfolgen. Das Pflanzenschutzmittel wird dabei unterhalb der Blühebene am Stängel platziert. Somit gelangt der Wirkstoff direkt an den Infektionsort der Weißstängeligkeit (Sclerotinia sclerotiorum). Ein weiterer Vorteil ist die geringere Wirkstoffbelastung der Bienen.

 

Die Vorteile auf einen Blick:

  • Bienenschutz
  • Effizienter Pflanzenschutzmitteleinsatz
  • Adriftminderung
  • temperarturunabhäniger Einsatz
  • kulturschonend

 

Bei Fragen rund um unsere Amazone Pantera, sowie der Dropleg-Applikationstechnik stehen wir Ihnen gerne zur Verfügung.